Установка для вимірювання величини та розподілу поверхневого потенціалу Si - пластин методом контактної різниці потенціалів
| dc.contributor.author | Волощук, А. Г. | |
| dc.contributor.author | Білоголовка, В. Т. | |
| dc.date.accessioned | 2016-07-19T06:36:36Z | |
| dc.date.available | 2016-07-19T06:36:36Z | |
| dc.date.issued | 2002 | |
| dc.description.abstract | Описана установка неруйнівного контролю якості фізико-хімічного стану поверхні напівпровідників, шляхом вимірювання поверхневого потенціалу. Приведені функціональна схема і технічні характеристики установки. Викладено вибіркові результати, що відображують вплив хімічних обробок на величину поверхневого потенціалу Si-пластин. | uk_UA |
| dc.identifier.citation | Установка для вимірювання величини та розподілу поверхневого потенціалу Si - пластин методом контактної різниці потенціалів / А. Г. Волощук, В. Т. Білоголовка // Методи та прилади контролю якості. - 2002. - № 8. - С. 44-46. | uk_UA |
| dc.identifier.uri | http://elar.nung.edu.ua/handle/123456789/603 | |
| dc.language.iso | uk | uk_UA |
| dc.publisher | ІФНТУНГ | uk_UA |
| dc.title | Установка для вимірювання величини та розподілу поверхневого потенціалу Si - пластин методом контактної різниці потенціалів | uk_UA |
| dc.type | Article | uk_UA |