Установка для вимірювання величини та розподілу поверхневого потенціалу Si - пластин методом контактної різниці потенціалів

Loading...
Thumbnail Image

Date

Journal Title

Journal ISSN

Volume Title

Publisher

ІФНТУНГ

Abstract

Описана установка неруйнівного контролю якості фізико-хімічного стану поверхні напівпровідників, шляхом вимірювання поверхневого потенціалу. Приведені функціональна схема і технічні характеристики установки. Викладено вибіркові результати, що відображують вплив хімічних обробок на величину поверхневого потенціалу Si-пластин.

Description

Keywords

Citation

Установка для вимірювання величини та розподілу поверхневого потенціалу Si - пластин методом контактної різниці потенціалів / А. Г. Волощук, В. Т. Білоголовка // Методи та прилади контролю якості. - 2002. - № 8. - С. 44-46.

Endorsement

Review

Supplemented By

Referenced By